最近，我系10级本科生刘雨露同学在倪振华教授指导下，以第一作者身份在国际高水平期刊ACS Nano（影响因子11.421）上发表了题为”Layer-by-layer thinning of MoS2 by plasma”的重要文章(http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nn400644t)。该论文提出了一种利用Ar+ Plasma(氩等离子体)从原子层面上精确控制二维纳米材料二硫化钼（MoS2）的方法。二硫化钼是一种新型的二维材料，具有非常优异的电学、力学及光学性能。其能带结构及发光、吸收等性能随厚度变化而显著变化（如单层为直接带隙，多层为间接带隙半导体），在光电器件中有非常好的应用前景。该研究提出的Plasma thinning的方法，能实现二硫化钼厚度的逐层精确控制（一层为~0.6nm），且处理后的样品没有任何缺陷，并能够进行大范围处理，为二硫化钼在光电探测等领域的应用提供了基础。该工作也得到了南京大学王欣然教授以及东南大学电子学院孙立涛教授课题组的协助。
刘雨露同学从本科2年级开始就在倪振华教授课题组中参与科研工作。2011年11月刘雨露同学获得了美国物理联合会（AIP）大学生组织Society of Physics Students(SPS)的Undergraduate Research Award，并得到SPS美国总部经费支持开展了“Controlled Growth of Graphene by Chemical Vapor Deposition”的研究项目。2012年11月刘雨露与东大其他五位同学赴美国参加大学生物理学年会（PhysCon），并获得了Honorable Mention奖（参加评奖总人数为194人，获奖5人）。
